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簡要描述:多功能EVG7300 UV納米壓印光刻系統(tǒng)可以支持多種相關(guān)的UV工藝:SmartNIL,晶圓級光學(xué)(WLO)和堆疊-三種功能合并在一個靈活的工具中
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它是一個基于模塊化和改進(jìn)的SmartNIL模塊的獨立系統(tǒng),可以根據(jù)處理和自動化水平進(jìn)行配置。EVG7300支持從150毫米到300毫米的晶圓尺寸,具有低至300納米的高精度對準(zhǔn),先進(jìn)的過程控制和高吞吐量,可以滿足各種自由形狀和高精度納米和微光學(xué)元件和器件的先進(jìn)研發(fā)和大批量制造(HVM)需求。為了在HVM環(huán)境中集成預(yù)處理和后處理流的必要性,該模塊可以集成到HERCULES NIL系統(tǒng)中
這種多功能系統(tǒng)旨在服務(wù)于廣泛的新興應(yīng)用,包括微和納米壓印以及功能層的紫外線堆疊。因此,該設(shè)備可以增強(qiáng)晶圓級光學(xué)(WLO),納米光子學(xué),超表面和生物醫(yī)學(xué)芯片的工藝性能。這與行業(yè)對新型光學(xué)傳感器和光電子器件的需求密切相關(guān),例如自動駕駛,汽車和裝飾照明中的微透鏡陣列和投影儀,生物識別認(rèn)證的衍射光學(xué)器件以及復(fù)雜元透鏡的新興趨勢。利用這項技術(shù)的第一個應(yīng)用已經(jīng)存在于先進(jìn)的生物醫(yī)學(xué)設(shè)備和增強(qiáng)現(xiàn)實波導(dǎo)領(lǐng)域,其中納米印跡技術(shù)可以實現(xiàn)復(fù)雜設(shè)計的高質(zhì)量制造。
特點
· 靈活性:UV- nil系統(tǒng)在一個工具中實現(xiàn)三個UV過程:SmartNIL, WLO和堆疊
· 精確控制多步工藝,包括對準(zhǔn),接觸和紫外線固化
· 用于SmartNIL和WLO的低力自動沖壓分離
· 可擴(kuò)展性:加工高達(dá)300mm基板的晶圓
· 模塊化:獨立模塊,以及集成到HERCULES NIL
· 基材搬運(yùn):從手動裝載到全自動操作
· 可選的自動郵票加載SmartNIL允許連續(xù)模式操作
· 高級對齊功能
· 實時校準(zhǔn)<±300nm(取決于工藝)
· UV LED燈最高功率500mW/cm2
· > 90%均勻度
· 可選:雙波長工作:365nm和405nm
· 不同的曝光模式
· 可選特性
· 光楔誤差補(bǔ)償(WEC)
· 溫度控制
· 行業(yè)先進(jìn)的工藝性能
· 分辨率低至單納米范圍
· 非常精確的殘余層控制
技術(shù)數(shù)據(jù)
晶圓直徑(襯底尺寸):最大300毫米
分辨率:≤10納米(視工藝及材料而定,主料由客戶提供)
支持的進(jìn)程:Lens Stacking、Lens Molding、SmartNIL®
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